本書是現(xiàn)代X射線光譜分析綜合性參考書。全書共分十七章，系統(tǒng)介紹X射線的物理基礎(chǔ)、基本性質(zhì)、激發(fā)、色散、探測與測量，波長色散與能量色散光譜儀，基體效應(yīng)、光譜背景和譜線重疊，樣品制備，定性與半定量分析，實(shí)驗(yàn)校正法、數(shù)學(xué)校正法定量分析，薄膜和鍍層厚度分析、應(yīng)用實(shí)例及分析誤差與不確定度等內(nèi)容。附錄列舉了X射線熒光光譜分析常用的物理常數(shù)、相關(guān)數(shù)據(jù)等，供讀者參考使用。本書適用于冶金、地質(zhì)、礦山、建材、檢驗(yàn)檢疫、石油、化工、環(huán)境、農(nóng)業(yè)、生物、食品、醫(yī)藥、文物及考古等部門從事X射線光譜分析的專業(yè)人員及相關(guān)工程技術(shù)人員參考，同時(shí)適用于高等院校相關(guān)專業(yè)師生、研究生及科研院所工程技術(shù)人員參考。
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